[发明专利]双折射晶体光学元件面形偏差测试系统有效

专利信息
申请号: 201110168927.2 申请日: 2011-06-22
公开(公告)号: CN102288129A 公开(公告)日: 2011-12-21
发明(设计)人: 高尚武;刘宏欣;邹建兵;刘华;袁海骥 申请(专利权)人: 科纳技术(苏州)有限公司
主分类号: G01B11/24 分类号: G01B11/24;G01B11/26
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215121 江苏省苏州市工业园*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明揭示了一种使用氦氖激光器及柱透镜搭建的能够测试双折射晶体加工而成的光学元件面形偏差的测试系统,具有成本低、测试方法简单、测试速度较快等优点,适用于大型企业对批量双折射晶体加工而成的光学元件面形偏差的测试。该发明的使用能够克服现有传统光学元件面形偏差的光学测量系统比较敏感不容易调试、对环境要求较高、测量范围相对较小等缺点,大幅度提高通信、仪器等产业测试光学元件的表面加工质量的速度,对产品的质量、可靠性及寿命也有很大的影响。
搜索关键词: 双折射 晶体 光学 元件 偏差 测试 系统
【主权项】:
双折射晶体光学元件面形偏差测试系统,其特征在于:包括氦氖激光器、柱透镜、待测光学元件的夹具以及相隔一定距离的两个接收屏,其中所述的柱透镜能够将氦氖激光器出射的点光源转化为平行于水平面的单波长线光源,用于光学元件面形偏差的测试。
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