[发明专利]晶体生长炉及其炉盖无效
申请号: | 201110168954.X | 申请日: | 2011-06-20 |
公开(公告)号: | CN102839428A | 公开(公告)日: | 2012-12-26 |
发明(设计)人: | 汤旋 | 申请(专利权)人: | 浙江昱辉阳光能源有限公司 |
主分类号: | C30B35/00 | 分类号: | C30B35/00;F27B17/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 逯长明 |
地址: | 314117 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种晶体生长炉炉盖,包括炉盖本体、覆于所述炉盖本体内壁的保温层及贯穿于其厚度方向且供电极穿过的通孔,所述晶体生长炉炉盖为平面状结构。如此设置,本发明提供的晶体生长炉可有效规避因电极长度较长而造成的电极材料浪费和电流损耗的问题及炉体内部抽真空时间过长的问题。本发明还公开了一种包括上述晶体生长炉炉盖的晶体生长炉。 | ||
搜索关键词: | 晶体生长 及其 | ||
【主权项】:
一种晶体生长炉炉盖,包括炉盖本体、覆于所述炉盖本体内壁的保温层及贯穿于其厚度方向且供电极穿过的通孔,其特征在于,所述晶体生长炉炉盖为平面状结构。
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