[发明专利]化学机械抛光系统无效
| 申请号： | 201110169865.7 | 申请日： | 2011-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN102773786A | 公开（公告）日： | 2012-11-14 |
| 发明（设计）人： | 刘立中;陈逸男;刘献文 | 申请（专利权）人： | 南亚科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B08B1/02;B08B3/02;H01L21/00 |
| 代理公司： | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人： | 江耀纯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光系统，包含有晶圆抛光单元，此晶圆抛光单元包含废液底槽用来接受使用过的抛光液，以及废弃抛光液排放管路用来排放该使用过的抛光液，以及抛光后清洗单元，与该晶圆抛光单元结合，并且将该抛光后清洗单元的使用过的碱性化学物流入该晶圆抛光单元，使该使用过的碱性化学物能即时的清洗废弃抛光液排放管路，避免该废弃抛光液排放管路阻塞。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 系统 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光系统，其特征在于包含有：一晶圆抛光单元，包含一废液底槽，用来接受一使用过的抛光液，以及一废弃抛光液排放管路，用来排放该使用过的抛光液；以及一抛光后清洗单元，与该晶圆抛光单元连接，并且将该抛光后清洗单元的一使用过的碱性化学物流入该晶圆抛光单元，使该使用过的碱性化学物能即时的清洗该废弃抛光液排放管路，避免该废弃抛光液排放管路阻塞。
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