[发明专利]硅片处理装置及其处理方法

摘要

本发明揭露一种硅片处理装置及其处理方法，用以对硅片进行预对准及边缘曝光。硅片处理装置沿光路包括光源和光学镜头。光学镜头包括滤波片单元，滤波片单元包括预对准用滤波片和曝光用滤波片，预对准用滤波片通过预对准波段的光，曝光用滤波片通过曝光波段的光，预对准用滤波片和曝光用滤波片之一置于工作状态。本发明提出的硅片处理装置，硅片边缘曝光及预对准使用同一光源和同一光学镜头、传感器及硅片旋转台，提高了能量利用率，降低了整套系统的成本，同时也提高了整套系统的可靠性和紧凑性。

主权项

一种硅片处理装置，用以对硅片进行预对准及边缘曝光，其特征是，所述硅片处理装置沿光路包括：光源；以及光学镜头，包括滤波片单元，所述滤波片单元包括预对准用滤波片和曝光用滤波片，所述预对准用滤波片通过预对准波段的光，所述曝光用滤波片通过曝光波段的光，所述预对准用滤波片和所述曝光用滤波片之一置于工作状态。