[发明专利]垂直式有机薄膜晶体管及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201110174163.8 申请日: 2011-06-27
公开(公告)号: CN102299260A 公开(公告)日: 2011-12-28
发明(设计)人: 吴德峻;翁守正;李怀安 申请(专利权)人: 福州华映视讯有限公司;中华映管股份有限公司
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L51/30;H01L51/40;B41M5/26
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 蔡学俊
地址: 350015 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明揭露一种垂直式有机薄膜晶体管及其制作方法,该垂直式有机薄膜晶体管包含一源极层、一第一图案化绝缘层、一图案化闸极层、一第二图案化绝缘层、一有机半导体层及一汲极层。该第一图案化绝缘层设置于源极层上。该图案化闸极层对应设置于该第一图案化绝缘层上。该第二图案化绝缘层具有一预定厚度,该第二图案化绝缘层覆盖于该图案化闸极层,并暴露出该源极层的局部表面。该有机半导体层覆盖于该第二图案化绝缘层及该局部表面。该汲极层设置于该有机半导体层上。
搜索关键词: 垂直 有机 薄膜晶体管 及其 制作方法
【主权项】:
一种垂直式有机薄膜晶体管,其特征在于,包含:一基板;一源极层,设置于该基板表面;一第一图案化绝缘层,设置于该源极层上,并暴露出该源极层的一局部表面;一图案化闸极层,对应设置于该第一图案化绝缘层上;一第二图案化绝缘层,具有一预定厚度,该第二图案化绝缘层覆盖于该图案化闸极层及该第一图案化绝缘层,并暴露出该局部表面;一有机半导体层,覆盖于该第二图案化绝缘层及该局部表面;以及一汲极层,设置于该有机半导体层上,其中该有机半导体层作为该源极层和汲极层之间的一垂直通道。
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