[发明专利]黄瓜歇秧防御技术无效
申请号: | 201110175646.X | 申请日: | 2011-06-27 |
公开(公告)号: | CN102308718A | 公开(公告)日: | 2012-01-11 |
发明(设计)人: | 苏芹 | 申请(专利权)人: | 苏芹 |
主分类号: | A01G1/00 | 分类号: | A01G1/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 233700 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 黄瓜歇秧防御技术,涉及农作物栽培技术,其特征在于:包括以下防御措施,加强植株调整:在黄瓜落蔓时不能一次落蔓太低,落蔓后,黄瓜植株维持在1.5米左右,保证植株有15片以上的功能叶,底部发黄的叶片要及时去掉,减少消耗;连阴天加强光照管理:在阴天时临近中午时要拉开草苫,适当放风2小时;注意肥水管理:深冬期间温度低,光照弱,一般在20天左右浇一次水即可,在浇水后要等棚内温度提高高30℃以上才可放风,肥料应随水冲施,要施容易被黄瓜吸收的含有腐殖酸或氨基酸的肥料;加强病虫害防治:深冬期间黄瓜极易发生霜霉病、褐斑病、灰霉病、细菌性角斑病等,要树立“以防为主、综合治理”的思想,在喷洒农药后及时放风。本发明可有效预防及防治黄瓜歇秧的发生,提高黄瓜产量及质量,增加菜农种瓜收入。 | ||
搜索关键词: | 黄瓜 防御 技术 | ||
【主权项】:
黄瓜歇秧防御技术,其特征在于:包括以下防御措施,a、加强植株调整:在黄瓜落蔓时不能一次落蔓太低,太低不利于黄瓜的正常生长,落蔓后,黄瓜植株维持在1.5米左右,保证植株有15片以上的功能叶,保证正常的光合作用,维持正常生长,对于坐瓜较多的植株,要适当疏瓜,不可见瓜就留,否则容易造成中后期歇秧,底部发黄的叶片要及时去掉,减少消耗;b、连阴天加强光照管理:春节前后阴雪天气较多,在阴天时临近中午时要拉开草苫,适当放风2小时,可增加棚内温度,连阴天骤转晴后不能猛然全部揭开草苫,应“揭花苫”,避免造成“闪苗”现象;c、注意肥水管理:深冬期间温度低,光照弱,浇水次数不能太勤,一般在20天左右浇一次水即可,且不能大水漫灌,在浇水后要等棚内温度提高高30℃以上才可放风,风口应由小到大,可不一次性放风过大,肥料应随水冲施,要施容易被黄瓜吸收的含有腐殖酸或氨基酸的肥料;d、加强病虫害防治:深冬期间黄瓜极易发生霜霉病、褐斑病、灰霉病、细菌性角斑病等,对于这些常见病害,要树立“以防为主、综合治理”的思想,确保棚内没有感病植株,在用药时要控制用药浓度,不可多种农药混配,在喷洒农药后及时放风。
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