[发明专利]具有低腐蚀性的化学机械平面化组合物和方法有效
| 申请号： | 201110179928.7 | 申请日： | 2011-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN102337081A | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | 史晓波;R·M·佩尔斯泰恩 | 申请（专利权）人： | 杜邦纳米材料气体产品有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/3105 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 吴亦华;徐志明 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及具有低腐蚀性的化学机械平面化组合物和方法。本发明提供在CMP加工过程中和之后提供良好的腐蚀保护和低缺陷率水平的CMP组合物和相关的方法。这种组合物和方法可用于半导体制造中的CMP(化学机械平面化)(包括除去金属和/或阻挡层材料)，特别是用于低工艺节点应用中的CMP加工。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 腐蚀性 化学 机械 平面化 组合 方法 | ||
【主权项】：
一种组合物，包含：a)选自氰脲酸酯、异氰脲酸酯和草酸或其盐的化合物；b)研磨剂；和c)氧化剂。
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