[发明专利]一种连续曝光方法和装置有效

专利信息
申请号: 201110181192.7 申请日: 2011-06-30
公开(公告)号: CN102323719A 公开(公告)日: 2012-01-18
发明(设计)人: 路志坚;杨星;蒋健艺;杨云胜 申请(专利权)人: 丹阳博昱科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 南京知识律师事务所 32207 代理人: 王新春
地址: 212300 江苏省镇江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种连续曝光方法和装置,包括:在运动的基材表面涂布材料混合物,其特征在于:使设定区域的基材处于松弛或较小张力的状态,使处于松弛或较小张力状态的基材与掩模板贴合,使基材与掩模板受掩模板传动装置的驱动以相同的速度通过曝光区域,使通过曝光区域的基材和掩模板分离,使与基材分离后的掩模板通过传动装置返回至初始位置。其装置包含有负压箱,掩模板,曝光光源和掩模板传动装置。本发明,可用于制作光学膜片、滤光片阵列、含有可绕曲基材的光电元器件或其他需要经曝光系统将预制在掩模版上的图案按设定要求,传递到可绕曲基材表面涂层上的膜片和器件,并用于液晶显示器、LED照明装置或太阳能电池板中。
搜索关键词: 一种 连续 曝光 方法 装置
【主权项】:
一种连续曝光方法,包括:在运动的基材表面涂布材料混合物,其特征在于:使设定区域的基材处于松弛或较小张力的状态,使处于松弛或较小张力状态的基材与掩模板贴合,使基材与掩模板受掩模板传动装置的驱动以相同的速度通过曝光区域,使通过曝光区域的基材和掩模板分离,使与基材分离后的掩模板通过传动装置返回至初始位置。
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