[发明专利]低分子量重钙研磨分散剂及其制备方法有效
| 申请号： | 201110183054.2 | 申请日： | 2011-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN102363638A | 公开（公告）日： | 2012-02-29 |
| 发明（设计）人： | 施晓旦;金霞朝;王养臣 | 申请（专利权）人： | 上海东升新材料有限公司 |
| 主分类号： | C08F120/06 | 分类号： | C08F120/06;C08F220/06;C08F220/14;C08F220/18;C08F222/06;C08F228/02;C08F2/38;C08F2/50;B01F17/52 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 郑玮 |
| 地址： | 200223 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种低分子量重钙研磨分散剂及其制备方法，制备方法，包括如下步骤：(1)在惰性气氛中，将单体滴入水、无机链转移剂和光敏引发剂中，滴加时间为3～6小时，同时在紫外光照射下，进行光引发聚合，单体滴加完毕后，继续反应0.5～2小时，(2)然后用NaOH溶液调节pH至4～6，并加水调节固含量至41～43％，得到目标分散剂。本发明所制备的分散剂是一种高效的重钙研磨分散剂，研磨所得重钙浆料具有粘度低、粘度稳定性好、并且碳酸钙粒子粒径细等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 分子量 研磨 分散剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
低分子量重钙研磨分散剂的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)在惰性气氛中，将单体滴入水、无机链转移剂和光敏引发剂中，滴加时间为3～6小时，同时在紫外光照射下，进行光引发聚合，单体滴加完毕后，继续反应0.5～2小时；(2)然后用NaOH溶液调节pH至4～6，并加水调节固含量至41～43％，得到目标分散剂。
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