[发明专利]反应离子刻蚀制绒结合选择性发射极太阳能电池制造工艺

摘要

本发明涉及太阳能电池制作方法领域，特别是一种反应离子刻蚀制绒结合选择性发射极太阳能电池制造工艺，该方法为：表面预处理后，硅片扩散形成扩散层，然后在硅片表面通过反应离子刻蚀在扩散层上形成微小绒面，印刷阻挡层，并通过局部湿法回蚀后形成重掺杂区与低掺杂区，最后在重掺杂区印刷电极，烧结，完成电池片制备。本发明的有益效果是：通过本发明可解决反应离子刻蚀制绒工艺造成扩散不均匀的问题，同时结合一次扩散选择性发射极工艺，提高短波响应，进一步增加光吸收，获得更高的光电转换效率。

主权项

一种反应离子刻蚀制绒结合选择性发射极太阳能电池制造工艺，其特征是：表面预处理后，硅片扩散形成扩散层，然后在硅片表面通过反应离子刻蚀在扩散层上形成微小绒面，印刷阻挡层，并通过局部湿法回蚀后形成重掺杂区与低掺杂区，最后在重掺杂区印刷电极，烧结，完成电池片制备。