[发明专利]硅烷胍基复合阴离子膜以及制备和应用有效

专利信息
申请号: 201110186931.1 申请日: 2011-07-05
公开(公告)号: CN102867971A 公开(公告)日: 2013-01-09
发明(设计)人: 张华民;曲超;张凤祥;刘波;史丁秦;王晓丽 申请(专利权)人: 中国科学院大连化学物理研究所;大连融科储能技术发展有限公司
主分类号: H01M8/02 分类号: H01M8/02;H01M2/16;C08J9/42;C08J7/12;C08G77/50
代理公司: 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 代理人: 马驰
地址: 116023 *** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明提供一种硅烷胍基复合阴离子膜及其制备方法和应用,该类膜由具有重复单元的无序体型硅烷胍类聚合物制备而成,由于含有大量的易传导阴离子的胍基团,同时硅烷的保水能力也提高了膜的离子传导能力,使膜具有电导率高的特点;硅烷胍与其他非传导离子介质复合后,具有优良的膜尺寸稳定性和机械强度,提高了膜的化学和机械稳定性。
搜索关键词: 硅烷 复合 阴离子 以及 制备 应用
【主权项】:
1.硅烷胍基复合阴离子膜,其特征在于:由硅烷胍材料制备而成,所述硅烷胍材料为具有重复单元的无序体型聚合物构成,重复单元的结构可以相同也可不相同,结构式如下所示:其中,5<n<108,R1,R2分别为如下结构中的一种或者几种,其中Q1~Q10分别为CtH2t+1中一种,t=1-20;M-为Br-、Cl-或OH-;M1,M2,M3可分别为A1,A1-A2,A1-A2-A3,A1-A2-A3-A4,...,A1-A2-...-A99-A100;其中A1,A2,A3,A4,A5...A98,A99,A100为如下结构中一种,n=0-20;
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