[发明专利]一种降低单耗的正面电极设计方法无效
申请号: | 201110188584.6 | 申请日: | 2011-07-05 |
公开(公告)号: | CN102254995A | 公开(公告)日: | 2011-11-23 |
发明(设计)人: | 赵丽艳;俞超 | 申请(专利权)人: | 浙江鸿禧光伏科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 314206 *** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了一种降低单耗的正面电极设计方法,一种降低单耗的正电极设计方法,其特征在于,包括如下步骤,第一步:将正电极网版的线宽设置为50-90um;第二步:将主栅线设计成若干行,每行设计若干个小孔;第三步:主栅线四周与硅片边缘之间的距离为0.15-0.25mm;第四步:在主删线中间均匀分布孔径d为0.06mm至0.12mm的不同尺寸圆孔,相邻两排圆孔采用相间式排列,即一排N个孔,另一排N-1个孔;第五步:相邻两排孔的中心间距H为2d±0.005mm;第六步:同一排的相邻两孔的中心间距M为2d±0.005mm。采用本发明方法设计的正电极,实际印刷时成本降低约为3%至12%之间,转换效率维持不变或略有提高,且外观没有相应的变化。 | ||
搜索关键词: | 一种 降低 正面 电极 设计 方法 | ||
【主权项】:
一种降低单耗的正面电极设计方法,其特征在于,包括如下步骤,第一步:将正电极网版的线宽设置为50‑90um;第二步:将主栅线设计成若干行,每行设计若干个小孔;第三步:主栅线四周与硅片边缘之间的距离为0.15‑0.25mm;第四步:在主删线中间均匀分布孔径d为0.06mm至0.12mm的不同尺寸圆孔,相邻两排圆孔采用相间式排列,即一排N个孔,另一排N‑1个孔;第五步:相邻两排孔的中心间距H为2d±0.005mm;第六步:同一排的相邻两孔的中心间距M为2d±0.005mm。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的