[发明专利]等离子增强化学气相淀积基座支撑设备

摘要

等离子增强化学气相淀积基座支撑设备。提供一种用于维持或调整大面积基板的方位(或倾向性，orientation)的设备及方法，其利用多个设于一适于支撑大面积基板的基座下方的支撑板进行。该多个支撑板是由多个连接到至少一致动器的支撑轴予以支撑。该设备是经设计以选择性调整基座的水平截面轮廓，以促进平坦且均匀的制程。水平轮廓可为平面、凹面或凸面中的一种。该设备可允许在制程前、期间或之后进行任何调整。

主权项

一种用于在一淀积反应腔中支撑一矩形基座的设备，包含：至少一支撑架，位于所述淀积反应腔外侧；多个支撑轴，连接至所述至少一支撑架以支撑所述矩形基座；以及至少四个支撑板，位于所述多个支撑轴和所述基座之间。