[发明专利]一种脱除羟基的苄基类保护基的方法有效

专利信息
申请号: 201110191238.3 申请日: 2011-07-08
公开(公告)号: CN102320920A 公开(公告)日: 2012-01-18
发明(设计)人: 沈振陆;戴佳亮;胡信全;莫卫民;胡宝祥 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: C07C29/50 分类号: C07C29/50;C07C31/125;C07C33/22;C07C35/08;C07C35/12;C07C35/14;C07C41/18;C07C43/13;C07C67/28;C07C69/16;C07C69/78;C07D207/08;C07D307/12
代理公司: 杭州天正专利事务所有限公司 33201 代理人: 黄美娟;俞慧
地址: 310014 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种脱除羟基的苄基类保护基的方法,所述的方法为:以羟基化合物的羟基上苄基类保护基得到的带有苄基类保护基的化合物为反应底物,以2,3-二氯-5,6-二腈基-1,4-苯醌(DDQ)和亚硝酸叔丁酯(TBN)为催化剂,以氧气为氧化剂,反应底物在有机溶剂中,于氧气压力不大于0.5MPa、温度100~140℃的条件下进行反应,脱除羟基的苄基类保护基得到羟基化合物。本发明所述方法具有经济、环保的优点。
搜索关键词: 一种 脱除 羟基 苄基 保护 方法
【主权项】:
一种脱除羟基的苄基类保护基的方法,其特征在于所述的方法为:以羟基化合物的羟基上苄基类保护基得到的带有苄基类保护基的化合物为反应底物,以2,3‑二氯‑5,6‑二腈基‑1,4‑苯醌和亚硝酸叔丁酯为催化剂,以氧气为氧化剂,反应底物在有机溶剂中,于氧气压力不大于0.5MPa、温度100~140℃的条件下进行反应,脱除苄基类保护基得到羟基化合物。
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