[发明专利]用于费托合成的在二氧化硅-氧化铝载体上的钴基催化剂有效
| 申请号： | 201110198375.X | 申请日： | 2011-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN102380386A | 公开（公告）日： | 2012-03-21 |
| 发明（设计）人： | S.莫里;C.勒让;L.索尔比耶;F.迪尔;J.洛佩;L.菲舍尔 | 申请（专利权）人： | 恩尼有限公司;IFP新能源公司 |
| 主分类号： | B01J23/75 | 分类号： | B01J23/75;B01J37/08;C10G2/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 李连涛;艾尼瓦尔 |
| 地址： | 意大*** | 国省代码： | 意大利;IT |
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| 摘要： | 本发明涉及用于进行由包括一氧化碳和氢气的混合物开始的烃合成的催化剂，其活性相包括在由至少一种氧化物形成的载体上沉积的至少一种第VIII族金属，其中所述第VIII族金属选自由钴、镍、钌或铁构成的组，以及其中所述催化剂具有在1-12范围内的由X射线光电发射光谱法测得的(Co/Al)未研磨/(Co/Al)研磨原子比。本发明还涉及该催化剂制备方法及其用途。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 合成 二氧化硅 氧化铝 载体 催化剂 | ||
【主权项】：
用于进行由包括一氧化碳和氢气的混合物开始的烃合成的催化剂，其活性相包括在由至少一种氧化物形成的载体上沉积的至少一种第VIII族金属，其中所述第VIII族金属选自由钴、镍、钌或铁构成的组，以及其中所述催化剂具有在1‑12范围内的由X射线光电发射光谱法测得的(Co/Al)未研磨/(Co/Al)研磨原子比。
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