[发明专利]一种硅片清洗用双层石英槽无效
| 申请号： | 201110198571.7 | 申请日： | 2011-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN102254793A | 公开（公告）日： | 2011-11-23 |
| 发明（设计）人： | 沈法松 | 申请（专利权）人： | 苏州凯西石英电子有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/00 | 分类号： | H01L21/00;B08B3/04 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 孙仿卫;汪青 |
| 地址： | 215233 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种硅片清洗用双层石英槽，包括槽体和设置在槽体内的电热偶护管，所述槽体包括在底部具有废液排出口的石英内槽体、位于石英内槽体外周且与石英内槽体外壁之间构成液体通道的石英外槽体，所述石英外槽体的下部设有出液口，石英槽还包括一端连接在石英外槽体的出液口处的石英回流管以及与石英回流管的另一端部相连通用于将石英回流管中的液体输入至石英内槽体中的输送装置。本发明实现了清洗液体自动循环流动，在避免资源浪费的同时，提高了清洗硅片的速度和效果，降低了劳动力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 清洗 双层 石英 | ||
【主权项】：
一种硅片清洗用双层石英槽，包括槽体和设置在槽体内的电热偶护管，其特征在于：所述槽体包括在底部具有废液排出口的石英内槽体（1）、位于所述石英内槽体（1）外周且与所述石英内槽体（1）外壁之间构成液体通道（3）的石英外槽体（2），所述石英外槽体（2）的下部设有出液口，所述石英槽还包括一端连接在所述石英外槽体（2）的出液口处的石英回流管（4）以及与所述石英回流管（4）的另一端部相连通用于将石英回流管（4）中的液体输入至所述石英内槽体（1）中的输送装置。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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