[发明专利]二氧化硅多孔质体、光学用途层积体和组合物、以及二氧化硅多孔质体的制造方法有效
| 申请号： | 201110198681.3 | 申请日： | 2008-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN102351201A | 公开（公告）日： | 2012-02-15 |
| 发明（设计）人： | 船山胜矢;大泉淳一;山川朋子;竹内久雄 | 申请（专利权）人： | 三菱化学株式会社 |
| 主分类号： | C01B33/18 | 分类号： | C01B33/18;C03C17/23 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种二氧化硅多孔质体，该二氧化硅多孔质体具有较低的折射率，并且对水稳定。具体地说，本发明提供的二氧化硅多孔质体的折射率为1.3以下，并且该二氧化硅多孔质体在水中浸渍前与在水中浸渍24小时后的于550nm波长处的折射率差为0.15以下。 | ||
| 搜索关键词： | 二氧化硅 多孔 质体 光学 用途 层积 组合 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种组合物，其特征在于，该组合物含有选自由四烷氧基硅烷类、四烷氧基硅烷类的水解物及部分缩合物组成的四烷氧基硅烷类组中的至少一种物质、和选自由除该四烷氧基硅烷类以外的烷氧基硅烷类、该烷氧基硅烷类的水解物及部分缩合物组成的其他烷氧基硅烷类组中的至少一种物质；和/或含有选自所述四烷氧基硅烷类组中的至少一种物质与选自其他烷氧基硅烷类组中的至少一种物质的部分缩合物，并且该组合物含有水；有机溶剂；催化剂；和具有环氧乙烷部位的非离子性高分子，并满足下述(3)～(6)：(3)来自四烷氧基硅烷类的硅原子与来自所有烷氧基硅烷类的硅原子的比例为0.3mol/mol～0.7mol/mol；(4)水与来自所有烷氧基硅烷类的硅原子的比例为10mol/mol以上；(5)具有环氧乙烷部位的非离子性高分子的重均分子量为4,300以上；(6)该有机溶剂中的80重量％以上为沸点55℃～140℃的有机溶剂。
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