[发明专利]金纳米颗粒基微-纳复合结构有序孔阵列及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201110199952.7 申请日: 2011-07-15
公开(公告)号: CN102877094A 公开(公告)日: 2013-01-16
发明(设计)人: 段国韬;罗媛媛;李越;刘广强;蔡伟平 申请(专利权)人: 中国科学院合肥物质科学研究院
主分类号: C25D1/08 分类号: C25D1/08;C25D5/00;C25D3/48
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 230031*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种金纳米颗粒基微-纳复合结构有序孔阵列及其制备方法。阵列为导电衬底上堆积有构成有序孔阵列壁的金颗粒,有序孔的孔间距为0.1~30μm,金颗粒的粒径为10~100nm,其堆积的层数为1~300层;方法为先将单层胶体晶体模板置于导电衬底上,再将其置于金电解液中电沉积,得到复合体阵列,之后,先溶去复合体阵列中的聚苯乙烯胶体球,得到金体阵列,再将金体阵列置于氯化钾溶液中进行电化学氧化-还原循环处理,其中,电化学氧化-还原循环处理的过程为,电压自-0.3V始,以1V/s的速率线形上升至1.2V后停留1.2s,随后再以0.5V/s的速率线形下降至-0.3V,如此循环往复5~35次,制得目标产物。目标产物可广泛地用于催化、电化学以及表面增强拉曼散射活性衬底。
搜索关键词: 纳米 颗粒 复合 结构 有序 阵列 及其 制备 方法
【主权项】:
一种金纳米颗粒基微‑纳复合结构有序孔阵列,包括导电衬底,其特征在于:所述导电衬底上堆积有构成有序孔阵列壁的金颗粒;所述有序孔的孔间距为0.1~30μm;所述金颗粒的粒径为10~100nm,其堆积的层数为1~300层。
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