[发明专利]实现一次曝光的切趾装置及方法无效
| 申请号： | 201110200375.9 | 申请日： | 2011-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN102221727A | 公开（公告）日： | 2011-10-19 |
| 发明（设计）人： | 何伟 | 申请（专利权）人： | 武汉理工大学 |
| 主分类号： | G02B6/124 | 分类号： | G02B6/124;H04B10/12 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人： | 王守仁 |
| 地址： | 430071 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供了实现一次曝光的切趾光纤光栅制作装置，此装置是在原有常规相位掩模板光纤光栅制作装置的基础上，加了一块特殊设计制作的凹形柱面反射镜。利用此装置可以一次同时完成切趾光纤光栅制作的两种曝光，具体方法是：具有切趾分布的紫外光经过聚焦柱透镜聚焦，透过相位掩模板在光敏光纤上写光纤光栅；越过光纤光栅的紫外光入射到凹形柱面反射镜后，由凹形柱面反射镜将一部分紫外光反射回去，反射回去的紫外光在光纤光栅处重新聚焦，并形成反切趾分布对光纤光栅进行折射率直流整形曝光，完成切趾光纤光栅的制作。本方法可以避免移动相位掩膜板和更换光阑，提高切趾光纤光栅的制作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 实现 一次 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
实现一次曝光切趾装置，其特征是主要由紫外光（1）、聚焦柱透镜（3）、相位掩模板（4）、光敏光纤（5）和凹形柱面反射镜（10）组成，它们依次排列在紫外光路上。
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