[发明专利]带有拉链状机构的光刻胶及方法无效
| 申请号： | 201110202632.2 | 申请日： | 2011-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN102466970A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 李芳城;张庆裕 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;H01L21/312 |
| 代理公司： | 北京德恒律师事务所 11306 | 代理人： | 陆鑫;高雪琴 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于光刻图案化工艺中的抗蚀剂。该抗蚀剂包括：聚合材料，具有多个拉链状分子，每个拉链状分子都包括第一拉链状部分和第二拉链状部分，其中，第一拉链状部分和第二拉链状部分都包括多个拉链状支链，多个拉链状支链成对键合在一起，并且能够通过热能、辐射能、以及反应中的一种而断裂开。 | ||
| 搜索关键词： | 带有 拉链 机构 光刻 方法 | ||
【主权项】：
一种用于光刻图案化工艺中的抗蚀剂，包括：聚合材料，具有多个拉链状分子，每个所述拉链状分子都包括第一拉链状部分和第二拉链状部分，其中，所述第一拉链状部分和所述第二拉链状部分都包括多个拉链状支链，所述多个拉链状支链成对键合在一起，并且能够通过热能、辐射能、以及化学反应中的一种而断裂开。
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