[发明专利]一种低辐射镀膜玻璃有效
| 申请号： | 201110203298.2 | 申请日： | 2011-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN102350834A | 公开（公告）日： | 2012-02-15 |
| 发明（设计）人： | 尚贵才;李艺明 | 申请（专利权）人： | 福耀玻璃工业集团股份有限公司;福建省万达汽车玻璃工业有限公司 |
| 主分类号： | B32B17/06 | 分类号： | B32B17/06;B32B15/04;C03C17/36;C03C27/06;B60J1/00 |
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| 地址： | 350301 福建省福*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 一种低辐射镀膜玻璃，涉及玻璃深加工领域，包括玻璃基板、电介质层、牺牲层、保护层、Ag膜层，其特征在于：所述Ag膜层沉积在MOx:Sb膜层之上，所述MOx:Sb膜层中的M为Zn、Ti、Sn、Zr中任意一种或几种组合，当M为Zn时x取值在0＜x≤1；当M为Ti、Sn、Zr中任意一种时x取值在0＜x≤2；当M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中的几种组合时x取值在0＜x≤3。优点是：在MOx:Sb膜层之上紧接着沉积Ag膜层，这样可以使Ag膜层更趋向于二维形态生长，Sb起到类似于表面活性剂的作用。这里的表面活性剂是动力学上有利于薄膜逐层生长的元素，利用它可以减少薄膜的表面粗糙度，使膜层的生长更加均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 辐射 镀膜 玻璃 | ||
【主权项】：
一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板、电介质层、牺牲层、保护层、Ag膜层，其特征在于：所述Ag膜层沉积在MOx:Sb膜层之上，所述MOx:Sb膜层中的M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中任意一种或几种组合，当M为Zn时x取值在0＜x≤1；当M为Ti、Sn、Zr中任意一种时x取值在0＜x≤2；当M为金属元素Zn、Ti、Sn、Zr中的几种组合时x取值在0＜x≤3。
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