[发明专利]基板处理装置、基板处理方法、程序和计算机存储媒体有效
| 申请号： | 201110204680.5 | 申请日： | 2011-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN102338990A | 公开（公告）日： | 2012-02-01 |
| 发明（设计）人： | 古闲法久 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种基板处理装置，能够适当地进行周边曝光处理后的基板的检查，并提高包括该检查的基板处理的处理能力。晶片处理装置(42)包括：保持晶片的保持部(120)；使保持部(120)旋转的并使保持部(120)在交接位置(P1)与周边曝光位置(P2)之间移动的驱动部(121)；在周边曝光位置(P2)将晶片(W)的周边部曝光的曝光部(140)；设置于曝光部(140)的上方对晶片(W)摄像的摄像部(150)；和改变形成于被保持部(120)保持的晶片(W)与摄像部(150)之间的光路的方向的方向转换部(153)。方向转换部(153)具有第一反射镜(154)、第二反射镜(155)和第三反射镜(156)，通过第二反射镜(155)和第三反射镜(156)使形成于晶片W与摄像部(150)之间的光路折回。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 方法 程序 计算机 存储 媒体 | ||
【主权项】：
一种基板处理装置，其特征在于，包括：保持基板的保持部；使被所述保持部保持的基板旋转的旋转驱动部；使所述保持部在交接位置与周边曝光位置之间移动的移动机构，所述交接位置是与外部之间实施基板的交接的位置，所述周边曝光位置是对在基板上形成的涂敷膜的周边部实施周边曝光处理的位置；设置于所述周边曝光位置侧，对被所述保持部保持的基板上的涂敷膜的周边部进行曝光的曝光部；在所述周边曝光位置侧设置于所述曝光部的上方，对被所述保持部保持的基板进行摄像的摄像部；和设置于所述交接位置与所述周边曝光位置之间，改变在被所述保持部保持的基板与所述摄像部之间形成的光路的方向的方向转换部，其中所述方向转换部具有：第一反射镜，其使从所述基板向铅直方向上方反射的光在所述周边曝光位置侧向水平方向反射；第二反射镜，其使来自所述第一反射镜的光在所述交接位置侧以规定的反射角向斜上方反射；第三反射镜，其使来自所述第二反射镜的光在所述周边曝光位置侧向水平方向反射，送入所述摄像部。
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