[发明专利]半亚光真空电镀工艺有效
| 申请号： | 201110205126.9 | 申请日： | 2011-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN102268640A | 公开（公告）日： | 2011-12-07 |
| 发明（设计）人： | 陆琪宏 | 申请（专利权）人： | 杭州三晶工艺塑料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/20 | 分类号： | C23C14/20;C23C14/18;C23C14/02;C23C14/58 |
| 代理公司： | 杭州华知专利事务所 33235 | 代理人： | 张德宝 |
| 地址： | 311116 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种半亚光真空电镀工艺，所述工艺采用如下步骤：(1)产品表面处理，所述产品为塑料制品或玻璃制品；(2)底漆调制：在底漆中加入5％-30％重量比的消光剂；(3)底漆喷涂及干燥；(4)真空镀膜：真空镀膜的膜厚为25nm-5000nm，镀膜层为铝层或铬层；(5)面漆调制：在面漆中加入5％-30％重量比的消光浆；(6)面漆喷涂及干燥。本发明的半亚光真空电镀工艺，通过真空镀膜可以迅速得到非常薄的表面镀层，速度快，附着力好；对物料的利用率高，中间损耗小；对环境的污染小，降低环保成本；涂层附着力强，电镀产品兼具亮光效果和亚光效果的优点，既保持鲜艳的色泽，又可减少反光、保护人的眼睛。 | ||
| 搜索关键词： | 亚光 真空 电镀 工艺 | ||
【主权项】：
一种半亚光真空电镀工艺，其特征在于：所述工艺采用如下步骤——(1)产品表面处理，所述产品为塑料制品或玻璃制品；(2)底漆调制：在底漆中加入5％‑30％重量比的消光剂；(3)底漆喷涂及干燥；(4)真空镀膜：真空镀膜的膜厚为25nm‑5000nm，镀膜层为铝层或铬层；(5)面漆调制：在面漆中加入5％‑30％重量比的消光浆；(6)面漆喷涂及干燥。
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