[发明专利]腔室装置及具有该腔室装置的等离子体处理设备

摘要

本发明提出了腔室装置及具有该腔室装置的等离子体处理设备。腔室装置包括：腔室本体，所述腔室本体内限定有腔室；第一和第二射频电极板，所述第一和第二射频电极板分别设在所述腔室本体的第一和第二侧且暴露到所述腔室内，所述第一和第二射频电极板分别与所述腔室本体绝缘；和载板，所述载板设在所述腔室内且接地以用作接地电极板，所述载板具有分别与所述第一和第二射频电极板相对且用于承载晶片的第一和第二侧面。根据本发明的腔室装置，可以显著地减少乃至彻底避免工艺过程中产生的颗粒、以及长时间运行后第一和第二射频电极板剥落的颗粒落于晶片表面，从而可以显著改善处理后的晶片的质量。此外，整个腔室装置结构紧凑、产能高。

主权项

一种腔室装置，其特征在于，包括：腔室本体，所述腔室本体内限定有腔室；第一和第二射频电极板，所述第一和第二射频电极板分别设在所述腔室本体的横向上的第一和第二侧且暴露到所述腔室内，所述第一和第二射频电极板分别与所述腔室本体绝缘；和载板，所述载板设在所述腔室内以用作接地电极板，所述载板具有分别与所述第一和第二射频电极板相对设置且用于承载晶片的第一和第二侧面。