[发明专利]抛光垫修整方法有效
| 申请号： | 201110209279.0 | 申请日： | 2011-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN102248486A | 公开（公告）日： | 2011-11-23 |
| 发明（设计）人： | 路新春;王同庆;沈攀 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | B24B53/00 | 分类号： | B24B53/00 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 宋合成 |
| 地址： | 100084 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种抛光垫修整方法，所述抛光垫修整方法包括：利用修整器对抛光垫进行修整，其中在所述修整器的修整头从所述抛光垫的中心向所述抛光垫的外沿摆动的过程中，所述修整头的摆动频率、旋转速度和修整压力中的至少一个减小，且在所述修整头从所述抛光垫的外沿向所述抛光垫的中心摆动的过程中，所述修整头的摆动频率、旋转速度和修整压力中的至少一个增大。利用所述抛光垫修整方法对所述抛光垫进行修整可以使所述抛光垫上各处的磨损量保持一致，从而可以大大地改善所述抛光垫的均匀性、大大地延长所述抛光垫的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 修整 方法 | ||
【主权项】：
一种抛光垫修整方法，其特征在于，包括：利用修整器对抛光垫进行修整，其中在所述修整器的修整头从所述抛光垫的中心向所述抛光垫的外沿摆动的过程中，所述修整头的摆动频率、旋转速度和修整压力中的至少一个减小，且在所述修整头从所述抛光垫的外沿向所述抛光垫的中心摆动的过程中，所述修整头的摆动频率、旋转速度和修整压力中的至少一个增大。
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