[发明专利]一种光刻胶清洗液无效
| 申请号： | 201110211526.0 | 申请日： | 2011-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN102902168A | 公开（公告）日： | 2013-01-30 |
| 发明（设计）人： | 刘兵;彭洪修;孙广胜 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻胶清洗液，该清洗液为非水性的低蚀刻清洗液。其含有：醇胺、3-氨基-5-巯基-1，2，4-三氮唑和助溶剂。这种光刻胶清洗液可以用于LED和半导体中光刻胶去除，同时对于基材基本没有攻击如金属铝等，更为特出的是该体系具有较强的耐水性，拓宽了其操作窗口，在LED和半导体晶片清洗等领域具有良好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 清洗 | ||
【主权项】：
一种光刻胶清洗液，其特征在于，包含：醇胺、3‑氨基‑5‑巯基‑1，2，4‑三氮唑以及助溶剂。
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