[发明专利]提高7350光刻胶热稳定性的方法有效
| 申请号： | 201110217319.6 | 申请日： | 2011-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN102253601A | 公开（公告）日： | 2011-11-23 |
| 发明（设计）人： | 张国华;陈杰;陈正才;李俊 | 申请（专利权）人： | 无锡中微晶园电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/14 | 分类号： | G03F7/14;G03F7/00 |
| 代理公司： | 无锡市大为专利商标事务所 32104 | 代理人： | 曹祖良 |
| 地址： | 214028 江苏省无锡市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种提高7350光刻胶热稳定性的方法，其包括如下步骤：a、第一次UV坚膜：将带有7350光刻胶的圆片放置于坚膜设备内坚膜；坚膜起始温度为100℃~110℃；起始温度保持时间为80~90秒，然后在47~53秒时间内使坚膜设备内圆片及7350光刻胶的温度升至123℃~137℃；b、第二次UV坚膜：将上述圆片再次放置于坚膜设备内坚膜，坚膜起始温度为114℃~126℃，其实温度保持时间为44~50秒；然后在95~105秒内使坚膜设备内圆片及7350光刻胶的温度升至190℃~210℃。本发明第一次UV坚膜工艺，使7350光刻胶内大部分溶剂挥发，并通过第二次UV坚膜工艺，使7350光刻胶变硬，以满足7350光刻胶作为掩模的要求，能够完成0.6μm金属条刻蚀的要求；与常规的坚膜设备兼容，不增加其它设备；工艺简单，实用性强；扩大了AMATP5000MXP的使用范围。 | ||
| 搜索关键词： | 提高 7350 光刻 热稳定性 方法 | ||
【主权项】：
一种提高7350光刻胶热稳定性的方法，其特征是，所述方法包括如下步骤：（a）、第一次UV坚膜：将带有7350光刻胶的圆片放置于坚膜设备内坚膜，所述7350光刻胶上刻蚀出相应的图案；坚膜起始温度为100℃~110℃；起始温度保持时间为80~90秒，然后在47~53秒时间内使坚膜设备内圆片及7350光刻胶的温度升至123℃~137℃；（b）、取片：将圆片移出坚膜设备，并使圆片的温度降至常温状态；（c）、第二次UV坚膜：将上述圆片再次放置于坚膜设备内坚膜，坚膜起始温度为114℃~126℃，其实温度保持时间为44~50秒；然后在95~105秒内使坚膜设备内圆片及7350光刻胶的温度升至190℃~210℃；（d）、取片：将上述圆片移出坚膜设备。
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