[发明专利]镀膜用喷洒头以及镀膜装置无效

专利信息
申请号: 201110217655.0 申请日: 2011-08-01
公开(公告)号: CN102851650A 公开(公告)日: 2013-01-02
发明(设计)人: 黄振荣 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/44
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开一种镀膜用喷洒头及具有该镀膜用喷洒头的镀膜装置,用以于基材上进行镀膜,其中,该镀膜用喷洒头包含:喷洒头本体;前驱物通道,设置于该喷洒头本体的中央区域,用以将前驱物流体喷洒至该基材上,使该前驱物流体与该基材表面产生反应;抽气通道,设置于该喷洒头本体,位于该前驱物通道的外周侧,用以抽取该前驱物流体与该反应后的残余物;以及气幕通道,设置于该喷洒头本体,位于该抽气通道的外周侧,用以向该基材喷送隔离气体,以于该基材承载盘与该镀膜用喷洒头间形成围护制作工艺反应区的封闭流场,使前驱物流体与该反应后的残余物不会外泄。
搜索关键词: 镀膜 喷洒 以及 装置
【主权项】:
一种镀膜用喷洒头,用以于具有制作工艺反应区的基材上进行镀膜,该镀膜用喷洒头包含:喷洒头本体;前驱物通道,设置于该喷洒头本体的中央区域,用以供前驱物流体经由该前驱物通道喷洒至该基材上,使该前驱物流体与该基材表面产生反应;抽气通道,设置于该喷洒头本体,位于该前驱物通道的外周侧,用以抽取该前驱物流体与该基材表面反应后的残余物;以及气幕通道,设置于该喷洒头本体,位于该抽气通道的外周侧,用以供隔离气体经由该气幕通道喷送至该基材和用以承载该基材的基材承载盘上,以于该基材承载盘与该镀膜用喷洒头间形成围护该基材上的制作工艺反应区的封闭流场。
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