[发明专利]真空对盒设备及对盒系统有效
申请号: | 201110218359.2 | 申请日: | 2011-08-01 |
公开(公告)号: | CN102654668A | 公开(公告)日: | 2012-09-05 |
发明(设计)人: | 陈柄宇;唐欢;刘英;张千 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333;B25J19/00 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100176 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明实施例公开了一种真空对盒设备及对盒系统,涉及液晶面板制造领域,实现了对液晶扩散过程的实时监测。本发明实施例的真空对盒设备,包括:上基板、与所述上基板相对设置的下基板和信号处理装置,所述上基板的与所述下基板相对的面上设置有电极片,所述电极片覆盖整个所述上基板,所述下基板的与所述上基板相对的面上设置有电极阵列,所述电极阵列的多个电极单元与所述信号处理装置相连接。本发明实施例的对盒系统,能够根据所述液晶扩散模拟图像调整对盒的工艺参数。 | ||
搜索关键词: | 真空 设备 系统 | ||
【主权项】:
一种真空对盒设备,包括:上基板、与所述上基板相对设置的下基板和信号处理装置,其特征在于,所述上基板的与所述下基板相对的面上设置有电极片,所述电极片覆盖整个所述上基板,所述下基板的与所述上基板相对的面上设置有电极阵列,所述电极阵列的多个电极单元与所述信号处理装置相连接。
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