[发明专利]真空对盒设备及对盒系统有效

专利信息
申请号: 201110218359.2 申请日: 2011-08-01
公开(公告)号: CN102654668A 公开(公告)日: 2012-09-05
发明(设计)人: 陈柄宇;唐欢;刘英;张千 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333;B25J19/00
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100176 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明实施例公开了一种真空对盒设备及对盒系统,涉及液晶面板制造领域,实现了对液晶扩散过程的实时监测。本发明实施例的真空对盒设备,包括:上基板、与所述上基板相对设置的下基板和信号处理装置,所述上基板的与所述下基板相对的面上设置有电极片,所述电极片覆盖整个所述上基板,所述下基板的与所述上基板相对的面上设置有电极阵列,所述电极阵列的多个电极单元与所述信号处理装置相连接。本发明实施例的对盒系统,能够根据所述液晶扩散模拟图像调整对盒的工艺参数。
搜索关键词: 真空 设备 系统
【主权项】:
一种真空对盒设备,包括:上基板、与所述上基板相对设置的下基板和信号处理装置,其特征在于,所述上基板的与所述下基板相对的面上设置有电极片,所述电极片覆盖整个所述上基板,所述下基板的与所述上基板相对的面上设置有电极阵列,所述电极阵列的多个电极单元与所述信号处理装置相连接。
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