[发明专利]合成石英玻璃衬底及其制备方法有效
| 申请号： | 201110218545.6 | 申请日： | 2011-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN102436136A | 公开（公告）日： | 2012-05-02 |
| 发明（设计）人： | 松井晴信;原田大实;竹内正树 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64;B24B29/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李跃龙 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种合成石英玻璃衬底及其制备方法。该衬底具有包括132mm2中央表面区域的6平方英寸的表面。132mm2的中央表面区域具有最多50nm的平整度。通过从148mm2中央表面区域减去132mm2中央表面区域得到的框架区域具有最多150nm的平整度。 | ||
| 搜索关键词： | 合成 石英玻璃 衬底 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种合成石英玻璃衬底，具有6平方英寸的主表面，该主表面包括148mm2的中央表面区域，该148mm2的中央表面区域包括132mm2的中央表面区域，从132mm2中央表面区域周边延伸至主表面周边的表面区域是倾斜的，其中132mm2的中央表面区域具有最多50nm的平整度，除132mm2中央表面区域外的148mm2中央表面区域的框架区域具有最多150nm的平整度。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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