[发明专利]一种新型超大粒径高浓度硅溶胶的制备方法

摘要

本发明提供了一种新型超大粒径高浓度硅溶胶的制备方法，原料选用硅粉、氢氧化钠、硝酸铈铵以及纯水，所说的硅粉、氢氧化钠与硝酸铈铵的重量比为200：3：1.5，将硅粉制成活化硅粉；将氢氧化钠制成氢氧化钠催化剂；将硝酸铈铵制成硝酸铈铵水溶液。本发明的制备方法具有如下技术效果：1）采用单质硅水解法制备新型超大粒径硅溶胶，其可用于CMP抛光液的磨料，粒径超过150nm，浓度超过45%，提高了硅溶胶的浓度，并且稳定性能好；2）反应时间短只需30小时，节省了反应时间；3）在制备过程中进行铈掺杂，提高抛光速率达15%左右，有效提高了CMP抛光液的抛光速率，减少抛光后的表面划伤，抛光后的表面粗糙度。

主权项

一种新型超大粒径高浓度硅溶胶的制备方法，其特征在于：原料选用硅粉、氢氧化钠、硝酸铈铵以及纯水，所说的硅粉、氢氧化钠与硝酸铈铵的重量比为200：3：1.5，将硅粉制成活化硅粉；将氢氧化钠制成氢氧化钠催化剂；将硝酸铈铵制成硝酸铈铵水溶液；在80℃下依次加入活化硅粉、氢氧化钠催化剂及硝酸铈铵水溶液，反应30min；此后每30min加一次活化硅粉、氢氧化钠催化剂及硝酸铈铵水溶液，活化硅粉及硝酸铈铵溶液加完为止，氢氧化钠催化剂在活化硅粉及硝酸铈铵溶液加完后就不需加，总反应时间为30h。