[发明专利]一种低场高弛豫率MRI造影剂及其制备方法与应用有效

专利信息
申请号: 201110221384.6 申请日: 2011-08-03
公开(公告)号: CN102319443A 公开(公告)日: 2012-01-18
发明(设计)人: 舒春英;甄明明;王春儒;郑俊鹏 申请(专利权)人: 中国科学院化学研究所
主分类号: A61K49/06 分类号: A61K49/06
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 关畅
地址: 100080 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种适用于低场磁共振成像的高效MRI大分子造影剂及其制备方法与应用。所述MRI大分子造影剂可按照包括下述步骤的方法制备:a)将富勒烯羧酸衍生物溶于MES缓冲液中,加入EDC和NHS,室温下反应,得到富勒烯羧酸活性酯溶液;b)将Gd-DTPA-HSA加入到所述富勒烯羧酸活性酯溶液中搅拌反应,即得到所述的MRI造影剂。该Gd-DTPA-HSA-fullerene大分子造影剂在低场(0.5T)条件下弛豫效率显著提高,可在减少造影剂的使用剂量条件下得到明显的组织对比度;更为重要的是将其作为一种MRI分子探针,可以用于探索纳米材料(如功能化富勒烯衍生物)的体内分布代谢行为。
搜索关键词: 一种 低场高弛豫率 mri 造影 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
一种MRI造影剂,是由Gd‑DTPA‑HSA与富勒烯羧酸衍生物通过偶联反应制备得到的;所述富勒烯羧酸衍生物的分子表达式为C60[C(COOH)2]x,其中,x=2‑4。
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