[发明专利]一种用于蓝宝石晶片的抛光组合物有效
| 申请号： | 201110223877.3 | 申请日： | 2011-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN102358825A | 公开（公告）日： | 2012-02-22 |
| 发明（设计）人： | 潘国顺;罗桂海;周艳;顾忠华;雒建斌;路新春 | 申请（专利权）人： | 清华大学;深圳清华大学研究院;深圳市力合材料有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人： | 童晓琳 |
| 地址： | 100084 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了属于半导体照明LED芯片、精密仪器仪表制造技术领域的一种用于蓝宝石晶片循环抛光的抛光组合物。该抛光组合物包含磨料和水，其特征在于，还包含抛光促进剂、螯合剂和抛光稳定剂，其中，按重量百分含量，抛光促进剂为0.05～10％，螯合剂为0.1～10％，抛光稳定剂为0.01～10％。本发明提供的抛光组合物主要适用于半导体照明LED芯片衬底、精密仪器仪表窗口等制造中的蓝宝石晶片抛光，具有抛光去除速率高、循环抛光性能好的特点，循环抛光5小时后晶片去除速率仍达到10微米/小时以上；经其抛光后的蓝宝石晶片表面光滑，无划痕、麻点等表面缺陷，表面粗糙度可达到0.3纳米以下。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 蓝宝石 晶片 抛光 组合 | ||
【主权项】：
一种用于蓝宝石晶片的抛光组合物，包含磨料和水，其特征在于：还包含抛光促进剂、螯合剂和抛光稳定剂，其中，按重量百分含量，抛光促进剂为0.05～10％，螯合剂为0.1～10％，抛光稳定剂为0.01～10％。
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