[发明专利]一种用于投影光刻中的焦面检测装置无效

专利信息
申请号: 201110224619.7 申请日: 2011-08-05
公开(公告)号: CN102243138A 公开(公告)日: 2011-11-16
发明(设计)人: 唐燕;胡松;陈铭勇 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02;G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 周长兴
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要: 一种用于投影光刻中的焦面检测装置,主要结构为:照明光源发出的光照射到绝对编码光栅上,经绝对编码光栅调制后的光通过投影成像系统后被第一反射镜投影成像到待测面上,经待测面反射后,通过第二反射镜进入检焦标记放大系统后由探测器接收;待测面的高度变化,使探测器接收到的绝对编码光栅像发生变化,利用探测器接收绝对编码光栅像,并提取与待测面高度对应的光栅像绝对编码,完成对待测面位置高度的检测。本发明采用绝对编码光栅代替传统光栅狭缝,通过增加绝对编码光栅编码位数,减小编码周期,能够增大焦面检测范围,提高检焦精度。
搜索关键词: 一种 用于 投影 光刻 中的 检测 装置
【主权项】:
一种用于投影光刻中的焦面检测装置,主要结构为:一照明光源,发出的光照射到绝对编码光栅上,经绝对编码光栅调制后的光通过投影成像系统后被第一反射镜投影成像到待测面上,经待测面反射后,通过第二反射镜进入检焦标记放大系统后由探测器接收;待测面的高度变化,使探测器接收到的绝对编码光栅像发生变化,利用探测器接收绝对编码光栅像,并提取与待测面高度对应的光栅像绝对编码,完成对待测面位置高度的检测。
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