[发明专利]气体中杂质的去除装置及维护方法有效
| 申请号： | 201110226195.8 | 申请日： | 2011-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN102410944A | 公开（公告）日： | 2012-04-11 |
| 发明（设计）人： | 陈生龙;林德宝;郭键平;俞大海 | 申请（专利权）人： | 聚光科技(杭州)股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N1/22 | 分类号： | G01N1/22;G01N1/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 310052 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了气体中杂质的去除装置，包括壳体、进气口和出气口；所述去除装置进一步包括：颗粒物，所述颗粒物积聚在一起，用于截留气体中携带的杂质；两层阻挡部件，所述阻挡部件上具有通孔，用于通过气体而阻挡所述颗粒物穿过；所述颗粒物处于所述两层阻挡部件之间，积聚在一起的颗粒物的上表面与上层阻挡部件的距离大于零；腔体，所述腔体处于积聚在一起的颗粒物的内部，具有用于通过气体而阻挡所述颗粒物穿过的通孔。本发明具有测量准确度高、方便维护、成本低等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 杂质 去除 装置 维护 方法 | ||
【主权项】：
气体中杂质的去除装置，包括壳体、进气口和出气口，以及设置在所述进气口上游的第一开关模块、设置在所述出气口下游的第二开关模块；其特征在于：所述去除装置进一步包括：颗粒物，所述颗粒物积聚在一起，用于截留气体中携带的杂质；两层阻挡部件，所述阻挡部件上具有通孔，用于通过气体而阻挡所述颗粒物穿过；所述颗粒物处于所述两层阻挡部件之间，积聚在一起的颗粒物的上表面与上层阻挡部件的距离大于零；腔体，所述腔体处于积聚在一起的颗粒物的内部，具有用于通过气体而阻挡所述颗粒物穿过的通孔。
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