[发明专利]反应腔室控温装置及应用该控温装置的半导体处理设备

摘要

本发明提供一种反应腔室控温装置，用于降低半导体处理设备的反应腔室的温度，其包括冷却装置，所述冷却装置环绕在所述反应腔室的外围或者在对反应腔室进行降温时移至反应腔室的外围。本发明还提供了一种半导体处理设备，其具有本发明提供的反应腔室控温装置。本发明提供的反应腔室控温装置，其能够使反应腔室实现快速降温，从而使反应腔室可在不同温度之间快速频繁切换，可为不同工艺过程提供较佳的工艺温度，进而提高工艺效率及工艺加工质量。本发明提供的半导体处理设备具有同样的优点。

主权项

一种反应腔室控温装置，用于控制半导体处理设备的反应腔室的温度，其特征在于包括冷却装置，所述冷却装置环绕在所述反应腔室的外围或者在对反应腔室进行降温时移至反应腔室的外围。