[发明专利]半导体装置有效
申请号: | 201110229034.4 | 申请日: | 2008-03-27 |
公开(公告)号: | CN102280409A | 公开(公告)日: | 2011-12-14 |
发明(设计)人: | 棚田好文 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | H01L21/77 | 分类号: | H01L21/77;H01L21/02 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 蔡悦 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的在于提供一种半导体装置的结构及其制造方法,其中在电路群中,形成被要求高速工作和低电压工作的电路与被要求当施加高电压时的充分可靠性的电路。在半导体装置中,在同一衬底上具有多种包括从单晶半导体衬底分离且接合的厚度不同的单晶半导体层的晶体管。使被要求高速工作的晶体管的单晶半导体层的厚度比被要求对电压的高耐压性的晶体管的单晶半导体层的厚度薄。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
一种用于制造半导体设备的方法,其特征在于,包括以下步骤:在第一半导体衬底中形成第一分离层,并在第二半导体衬底中形成第二分离层;将所述第一半导体衬底以及所述第二半导体衬底与支撑衬底粘合;对所述第一分离层上的所述第一半导体衬底进行分离以在所述支撑衬底上形成第一单晶半导体层,并对所述第二分离层上的所述第二半导体衬底进行分离以在所述支撑衬底上形成第二单晶半导体层,其中所述第一单晶半导体层比所述第二单晶半导体层薄;对所述第一单晶半导体层和所述第二单晶半导体层进行处理以分别形成多个第一岛状半导体层和多个第二岛状半导体层;在所述多个第一岛状半导体层上形成第一栅绝缘膜并在所述多个第二岛状半导体层上形成第二栅绝缘膜;在所述多个第一岛状半导体层和所述多个第二岛状半导体层的每一个上形成栅极;引入杂质元素以在所述多个第一岛状半导体层和所述多个第二岛状半导体层的每一个中形成多个杂质区域;形成电连接到所述多个杂质区域的每一个的电极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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