[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 201110234447.1 | 申请日： | 2011-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN102375347A | 公开（公告）日： | 2012-03-14 |
| 发明（设计）人： | J·S·C·维斯特尔拉肯;E·A·F·范德帕斯奇;P·P·斯汀贾尔特;F·范德马斯特;G·A·H·F·詹森 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备以及一种器件制造方法。所述光刻设备具有：第一出口，其用于将具有第一流动特性的被热调节的流体提供至传感器束路径的至少一部分；和第二出口，其与第一出口相关联，并且用以在来自第一出口的被热调节的流体附近提供具有第二流动特性的被热调节的流体，第二流动特性与第一流动特性不同。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，包括：传感器，所述传感器包括用以将辐射束沿传感器束路径投射至标记的发射器；第一出口，用于提供沿所述传感器束路径的湍流流体流；第二出口，用于提供基本上包围所述湍流流体流的层状流体流。
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