[发明专利]曝光工艺及装置无效
| 申请号： | 201110238077.9 | 申请日： | 2011-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN102629078A | 公开（公告）日： | 2012-08-08 |
| 发明（设计）人： | 隆清德 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 韩国胜;王莹 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明属于曝光技术领域，公开了一种曝光工艺，将涂布有光刻胶的基板竖直设置，曝光用掩膜版与所述基板平行，使曝光机的光线照射方向垂直于所述掩膜版对所述光刻胶进行曝光。本发明还公开了一种曝光装置，包括固定被曝光基板的基板载台和固定掩膜版的掩膜版载台，所述基板载台竖直设置，所述掩膜版载台能够由水平面翻转至与所述基板载台平行。本发明中，将曝光方式由传统的水平曝光变更为垂直曝光方式，克服掩模板由于自身重力作用引起的形变，使曝光得到的图形整体形变减少；并且提高曝光得到的图形在后续制程中的整体对位精度，避免由于图形公差差别较大导致的漏光及亮度不均匀等不良现象。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 工艺 装置 | ||
【主权项】：
一种曝光工艺，其特征在于，将涂布有光刻胶的基板竖直设置，曝光用掩膜版与所述基板平行，使曝光机的光线照射方向垂直于所述掩膜版对所述光刻胶进行曝光。
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