[发明专利]一种投影曝光装置与拼接方法有效
| 申请号： | 201110241777.3 | 申请日： | 2011-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN102955366A | 公开（公告）日： | 2013-03-06 |
| 发明（设计）人： | 张俊;唐世弋;陈勇辉 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种投影曝光装置，用于在基底表面形成曝光图案，包括：可变狭缝，所述可变狭缝包括若干刀口，其特征在于，所述可变狭缝的刀口既可平移运动也可旋转运动，根据待曝光图案的排布，调整所述刀口来调整所述可变狭缝的视场的形状和尺寸，使得所述视场边缘从所述待曝光图案之间穿过或使得所述视场包含了所述待曝光图案区域，从而使得所述视场之间的拼接线不穿过所述曝光图案。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 投影 曝光 装置 拼接 方法 | ||
【主权项】：
一种投影曝光装置，用于在基底表面形成曝光图案，包括：可变狭缝，所述可变狭缝包括若干刀口，其特征在于，所述可变狭缝的刀口既可平移运动也可旋转运动，根据待曝光图案的排布，调整所述刀口来调整所述可变狭缝的视场的形状和尺寸，使得所述视场边缘从所述待曝光图案之间穿过或使得所述视场包含了所述待曝光图案区域；，从而使得所述视场之间的拼接线不穿过所述曝光图案。
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