[发明专利]水力空化制备氧化还原电位水的方法有效
| 申请号： | 201110242461.6 | 申请日： | 2011-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN102285695A | 公开（公告）日： | 2011-12-21 |
| 发明（设计）人： | 朱孟府;邓橙;宿红波;游秀东;陈平 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军军事医学科学院卫生装备研究所 |
| 主分类号： | C02F1/00 | 分类号： | C02F1/00 |
| 代理公司： | 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 | 代理人： | 仝林叶 |
| 地址： | 300161 *** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种水力空化制备氧化还原电位水的方法。本发明按照下述步骤进行：（1）在原水中加入无机盐化合物，混合均匀，配制摩尔浓度为0.01～2mol/L的无机盐溶液；（2）将上述无机盐溶液加入水力空化反应器中；（3）水力空化反应器中放置多孔孔板，调节反应器温度为20～50℃，压力为0.1～0.4MPa，运行10～100min，即获得本发明的氧化还原电位水。本发明提供了一种利用水力空化产生的能量制备氧化还原电位水的方法，该技术方法工艺简单，成本低，容易实现大规模生产。 | ||
| 搜索关键词： | 水力 制备 氧化 还原 电位 方法 | ||
【主权项】：
一种水力空化制备氧化还原电位水的方法，其特征在于，按照下述步骤进行：（1）在原水中加入无机盐化合物，混合均匀，配制摩尔浓度为0.01～2mol/L的无机盐溶液；（2）将上述无机盐溶液加入水力空化反应器中；（3）水力空化反应器中放置多孔孔板，调节反应器温度为20～50℃，压力为0.1～0.4MPa，运行10～100min，即获得本发明的氧化还原电位水。
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