[发明专利]结构制造方法和结构无效
| 申请号： | 201110243061.7 | 申请日： | 2011-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN102555217A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 增原慎 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | B29C67/00 | 分类号： | B29C67/00 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 柳春雷 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种结构制造方法和结构，该结构制造方法包括：在基础材料上层叠第一膜；根据基础材料上的第一膜的表面的位置，利用能量束选择性地照射第一膜以在第一膜上形成图案的潜像；在第一膜的表面上层叠第二膜；以及将显影剂提供给第二膜，并且将连同第二膜一起选择性被移除的、第一膜的移除目标部分移除，由此对图案进行显影。 | ||
| 搜索关键词： | 结构 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种结构制造方法，包括：在基础材料上层叠第一膜；根据所述基础材料上的所述第一膜的表面的位置，利用能量束选择性地照射所述第一膜以在所述第一膜上形成图案的潜像；在所述第一膜的表面上层叠第二膜；以及将显影剂提供给所述第二膜，并且将所述第一膜的、选择性被移除的移除目标部分连同所述第二膜一起移除，由此对所述图案进行显影。
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