[发明专利]用于硫族合金的抛光液无效
| 申请号： | 201110243540.9 | 申请日： | 2011-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN102382575A | 公开（公告）日： | 2012-03-21 |
| 发明（设计）人： | 具滋澔;刘振东;K·沙旺特;K-A·K·雷迪 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C23F3/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 用于硫族合金的抛光液。本发明提供了一种用于化学机械抛光硫族相变合金基材的化学机械抛光组合物。该组合物包括，按重量百分比计，水、0.1-30的胶体二氧化硅研磨剂、至少一种抛光剂，抛光剂选自0.05-5的卤素化合物、0.05-5的邻苯二甲酸、0.05-5的邻苯二甲酸酐及其盐、衍生物和其混合物。该化学机械抛光组合物的pH为2-小于7。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 合金 抛光 | ||
【主权项】：
一种用于化学机械抛光硫族相变合金基材的化学机械抛光组合物，按重量百分比计，所述组合物包括水、0.1‑30的胶体二氧化硅研磨剂、至少一种抛光剂，所述抛光剂选自0.05‑5的卤素化合物、0.05‑5的邻苯二甲酸、0.05‑5的邻苯二甲酸酐及其盐、衍生物和其混合物，其中化学机械抛光组合物的pH为2‑小于7。
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