[发明专利]一种双向双通道的瞬态电压抑制器无效
申请号: | 201110244002.1 | 申请日: | 2011-08-24 |
公开(公告)号: | CN102306649A | 公开(公告)日: | 2012-01-04 |
发明(设计)人: | 董树荣;吴健;苗萌;马飞 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02 |
代理公司: | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人: | 胡红娟 |
地址: | 310027 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种双向双通道的瞬态电压抑制器,包括P+衬底层,P+衬底层上从左到右依次设有第一N+埋层、第一P-外延区、第二P-外延区、第三P-外延区、第二N+埋层;第一N+埋层和第二N+埋层上分别设有第一N注入区和第二N注入区;第一P-外延区和第三P-外延区上分别设有第一N+有源注入区和第二N+有源注入区;第一N注入区、第二P-外延区和第二N注入区上分别设有第一P+有源注入区、第二P+有源注入区和第三P+有源注入区。本发明通过采用齐纳稳压管与低电容二极管的组合结构,进一步降低了TVS的寄生电容,减小了导通电阻,提高了TVS的钳位特性,可广泛应用于一些便携式设备和高速接口的静电防护上。 | ||
搜索关键词: | 一种 双向 双通道 瞬态 电压 抑制器 | ||
【主权项】:
一种双向双通道的瞬态电压抑制器,其特征在于:包括P+衬底层,所述的P+衬底层上从左到右依次设有第一隔离槽、第一N+埋层、第二隔离槽、第一P 外延区、第三隔离槽、第二P 外延区、第四隔离槽、第三P 外延区、第五隔离槽、第二N+埋层、第六隔离槽;所述的第一N+埋层和第二N+埋层上分别设有第一N注入区和第二N注入区;所述的第一P 外延区和第三P 外延区上分别设有第一N+有源注入区和第二N+有源注入区;所述的第一N注入区、第二P 外延区和第二N注入区上分别设有第一P+有源注入区、第二P+有源注入区和第三P+有源注入区;所述的第一P+有源注入区和第一N+有源注入区通过第一金属电极相连;所述的第三P+有源注入区和第二N+有源注入区通过第二金属电极相连;所述的第二P+有源注入区与接地电极相连。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大学,未经浙江大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110244002.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种耐核辐射耐老化橡胶
- 下一篇:板料渐进冲击成形的工艺方法
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的