[发明专利]化学气相沉积法涂层装置有效
申请号: | 201110246181.2 | 申请日: | 2011-08-25 |
公开(公告)号: | CN102953049A | 公开(公告)日: | 2013-03-06 |
发明(设计)人: | 朴万成;黄宇哲;李成哲;金哲男;金上万;李权星;王宏刚 | 申请(专利权)人: | 沈阳金研机床工具有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/44 |
代理公司: | 沈阳杰克知识产权代理有限公司 21207 | 代理人: | 金春华 |
地址: | 110045 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明创造涉及化学气相沉积法涂层装置。采用的技术方案是:包括反应炉,反应炉内设有支撑筒,支撑筒上端设有排气帽,反应炉和支撑筒之间为尾气通道,支撑筒内从上到下依次为沉积区、气体分配区和预热区;沉积区内:设有若干托盘),托盘上设有若干通气孔Ⅰ;气体分配区内:支架Ⅰ固定挡板,挡板上端安装至少三层隔板,支架Ⅱ固定隔板,隔板上设有若干通气孔Ⅱ;预热区内:安装若干层预热板,进气管的出口端与气体分配区相通,支撑筒在预热区部位的下端设有尾气入口,预热区的下端设有尾气出口。还设有加热炉,反应炉置于加热炉内。采用本发明创造的涂层装置,涂层均匀度高,具有较高的附着力,提高了产品的耐磨损性和耐缺损性。 | ||
搜索关键词: | 化学 沉积 涂层 装置 | ||
【主权项】:
化学气相沉积法涂层装置,包括反应炉(1),其特征在于:反应炉(1)内设有支撑筒(3),支撑筒(3)上端设有排气帽(2),支撑筒(3)内从上到下依次为沉积区(4)、气体分配区(5)和预热区(6);沉积区(4)内:设有若干托盘(41),托盘(41)上设有若干通气孔Ⅰ(42);气体分配区(5)内:支架Ⅰ(54)固定挡板(53),挡板(53)上端安装至少三层隔板(51),支架Ⅱ(52)固定隔板(51),隔板(51)上设有若干通气孔Ⅱ(55);预热区(6)内:安装若干层预热板(63),进气管(61)的出口端与气体分配区(5)相通,支撑筒(3)在预热区部位的下端设有尾气入口(62),预热区(6)的下端设有尾气出口(64)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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