[发明专利]形成接触窗的方法无效

专利信息
申请号: 201110252571.0 申请日: 2011-08-30
公开(公告)号: CN102270606A 公开(公告)日: 2011-12-07
发明(设计)人: 陆文正;姚洋羽 申请(专利权)人: 福建华映显示科技有限公司;中华映管股份有限公司
主分类号: H01L21/77 分类号: H01L21/77;H01L21/768;H01L21/311
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 蔡学俊
地址: 350015 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 一种形成接触窗的方法,用于一晶体管数组基板,其具有多个第一接触垫、多个位在第一接触垫上方的第二接触垫、一覆盖第一接触垫的第一绝缘层及一覆盖第二接触垫的第二绝缘层。在此方法中,首先,在第二绝缘层上形成一具有多个凹槽与多个第一开口的光阻图案层。第一开口局部暴露第二绝缘层。接着,移除位在第一开口内的部分第一绝缘层与部分第二绝缘层,以暴露第一接触垫。接着,减少光阻图案层的厚度,以使凹槽形成局部暴露第二绝缘层的第二开口。之后,移除位在第二开口内的部分第二绝缘层,以暴露第二接触垫。本发明能降低发生过蚀刻的可能性,从而减少晶体管数组基板的制造成本。
搜索关键词: 形成 接触 方法
【主权项】:
在该第二绝缘层上形成一光阻图案层,其中该光阻图案层具有多个凹槽与多个第一开口,该些第一开口局部暴露该第二绝缘层,而该些凹槽未暴露该第二绝缘层,该些第一开口分别位在该些第一接触垫的正上方,而该些凹槽分别位在该些第二接触垫的正上方;以该光阻图案层为屏蔽,移除位在该些第一开口内的部分该第二绝缘层与部分该第一绝缘层,以暴露该些第一接触垫;减少该光阻图案层的厚度,以使该些凹槽形成多个第二开口,其中该些第二开口局部暴露该第二绝缘层;以及以厚度减少后的该光阻图案层为屏蔽,移除位在该些第二开口内的部分该第二绝缘层,以暴露该些第二接触垫。
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