[发明专利]一种阻抗匹配元件有效
| 申请号： | 201110254416.2 | 申请日： | 2011-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN102956983A | 公开（公告）日： | 2013-03-06 |
| 发明（设计）人： | 刘若鹏;季春霖;岳玉涛;洪运南 | 申请（专利权）人： | 深圳光启高等理工研究院;深圳光启创新技术有限公司 |
| 主分类号： | H01Q15/00 | 分类号： | H01Q15/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种阻抗匹配元件，其用于超材料功能层，所述超材料功能层上折射率分布不均匀且具有最大折射率nmax与最小折射率nmin，所述阻抗匹配元件包括第一至第M层阻抗匹配层；所述第一至第M层阻抗匹配层包括相对的两片基材以及与所述两片基材构成密封腔的密封物；所述第一阻抗匹配层折射率等于空气折射率，所述第M层阻抗匹配层折射率等于所述超材料功能层折射率最小值。本发明阻抗匹配元件能有效减少电磁波从自由空间入射到超材料功能层上时所产生的反射现象，从而提高超材料功能层转化电磁波的增益，具有结构简单、便于规模化生产的有益效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阻抗匹配 元件 | ||
【主权项】：
一种阻抗匹配元件，用于超材料功能层，其特征在于：所述超材料功能层上折射率分布不均匀且具有最大折射率nmax与最小折射率nmin，所述阻抗匹配元件包括第一至第M层阻抗匹配层；所述第一至第M层阻抗匹配层包括相对的两片基材以及与所述两片基材构成密封腔的密封物；所述第一阻抗匹配层折射率等于空气折射率，所述第M层阻抗匹配层折射率等于所述超材料功能层折射率最小值。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳光启高等理工研究院;深圳光启创新技术有限公司，未经深圳光启高等理工研究院;深圳光启创新技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110254416.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种小型工业控制室用等电位防雷辅助装置
- 下一篇：废旧锂电池处理方法
