[发明专利]NAND型非易失性存储器的数据擦除方法有效
申请号: | 201110257312.7 | 申请日: | 2007-03-21 |
公开(公告)号: | CN102403319A | 公开(公告)日: | 2012-04-04 |
发明(设计)人: | 纳光明;三宅博之;宫崎彩;山崎舜平 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;G11C16/14 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 张鑫 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明的目的在于提供不使用P阱或N阱等衬底端子,而放出对非易失性存储元件的电荷存储层注入的电荷的方法,作为NAND型非易失性存储器的数据擦除方法。在NAND型非易失性存储器的数据擦除方法中,通过对位线和源线施加第一电位,对第一非易失性存储元件的控制栅极施加第二电位,而且对第二非易失性存储元件的控制栅极施加与第二电位不同的第三电位,而放出存储在第一非易失性存储元件的电荷存储层中的电荷。 | ||
搜索关键词: | nand 非易失性存储器 数据 擦除 方法 | ||
【主权项】:
一种非易失性半导体存储器件,包括:包括沟道形成区的单晶半导体;所述沟道形成区上面的第一绝缘层;中间夹着所述第一绝缘层而形成在所述沟道形成区上面的电荷存储层;所述电荷存储层上面的氮化膜;所述氮化膜上面的第二绝缘层;以及中间夹着所述氮化膜和所述第二绝缘层而形成在所述电荷存储层上面的控制栅极。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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