[发明专利]一种集成尺寸量测和套刻精度检测的图形结构及检测方法有效
申请号: | 201110265240.0 | 申请日: | 2011-09-08 |
公开(公告)号: | CN102446902A | 公开(公告)日: | 2012-05-09 |
发明(设计)人: | 王剑;毛智彪;戴韫青 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | H01L23/544 | 分类号: | H01L23/544;G03F7/20;H01L21/66 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 王敏杰 |
地址: | 201210 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开一种集成尺寸量测和套刻精度检测的图形结构,其特征在于,一内箱式套刻精度检测图形,所述内箱包括若干呈阵列式排列的孔,部分所述孔被填充。本发明的图形结构适用于0.25微米技术节点以下通孔和接触孔的光刻生产工艺,使用由孔构成的内箱式套刻精度检测图形来检测套刻精度或在光学显微镜下确定特征尺寸检测图形位置。 | ||
搜索关键词: | 一种 集成 尺寸 精度 检测 图形 结构 方法 | ||
【主权项】:
一种集成尺寸量测和套刻精度检测的图形结构,其特征在于,一内箱式套刻精度检测图形,所述内箱包括若干呈阵列式排列的孔,部分所述孔被填充。
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