[发明专利]一种新型晶边检测仪稳定性的监控方法有效
申请号: | 201110265326.3 | 申请日: | 2011-09-08 |
公开(公告)号: | CN102435616A | 公开(公告)日: | 2012-05-02 |
发明(设计)人: | 朱陆君;陈宏璘;倪棋梁;龙吟;郭明升;王凯 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G01N21/93 | 分类号: | G01N21/93 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 王敏杰 |
地址: | 201210 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种新型晶边检测仪稳定性的监控方法,选取一片合适的成品晶片,该片具有一定数目的不同类型和尺寸的缺陷固定在表面,并且该片不再做其它工艺流程,作为以后该机台检测的新基准片。在日常检测时将三个面的扫描图分别与成品晶片转换成的基准片原始图进行叠图,将叠到的具有相同坐标位置的缺陷的数目作为计算捕获率的值,将没叠到的缺陷的数目作为计算失败率的值。通过三个面的捕获率和失败率这六个值可以更加直观的检测到机台在不同位面缺陷收集信号的能力以及机台的稳定性和精确性。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 边检 稳定性 监控 方法 | ||
【主权项】:
一种新型晶边检测仪稳定性的监控方法,用于确定所述晶片检测仪是否能够正常工作,其特征在于,包括如下步骤:提供一成品晶片作为基准片,所述基准片的正面、背面及其圆周侧面上均有多个不同尺寸、类型的缺陷;分别制作多张所述基准片的正面、背面及其圆周侧面的缺陷扫描图;分别制作正面原始图、背面原始图以及圆周侧面原始图,所述正面原始图上包括部分所述基准片正面陷扫描图上的缺陷,所述背面原始图上包括部分所述基准片背面陷扫描图上的缺陷,所述圆周侧面原始图上包括部分所述基准片圆周侧面陷扫描图上的缺陷;进行日常检测,将日常扫描图与原始图叠图,将具有相同坐标的缺陷汇总求和,将增加的缺陷汇总求和;分别对晶片的正面、背面及其圆周侧面进行的捕获率和失败率计算,若捕获率在90%~110%之间且失败率不大于10%,则仪器合格结束监控;若捕获率低于90%且失败率大于10%,则停机检查。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司,未经上海华力微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110265326.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。